Immaterialrätt och otillbörlig konkurrens : upphovsrätt - patent - mönster
(Klicka för en större bild)
Immaterialrätt och otillbörlig konkurrens : upphovsrätt - patent - mönsterImmaterialrätt och otillbörlig konkurrens : upphovsrätt - patent - mönster

Immaterialrätt och otillbörlig konkurrens : upphovsrätt - patent - mönster

Ulf Bernitz, PerJonas Nordell, Jan Rosén & Claes Sandgren

799kr / st.
Häftad
Artikelnummer:9789139028925
Enhet:st.
Lagerstatus:Beställningsvara
St:

Immaterialrätt och otillbörlig konkurrens ger en samlad framställning av hela ämnesområdet. Boken är välkänd och allmänt använd alltsedan första upplagan kom ut 1983.

Framställningen i sextonde upplagan har genomgående omarbetats och fått ett delvis helt nytt upplägg och har i mycket väsentlig mån reviderats med hänsyn till den snabba utvecklingen och de många nyheterna i europeisk och svensk lagstiftning, rättspraxis och doktrin. Sextonde upplagan speglar områdets starkt ökade ekonomiska betydelse och snabba europeisering.

Boken behandlar bl.a.
• upphovsrätten – skyddet för författare, konstnärer, kompositörer, artister, fotografer m.fl.
• patenträtten – skyddet för uppfinningar
• mönsterrätten – skyddet för formgivning
• känneteckensrätten – skyddet för varumärken av olika slag, företagsnamn, efternamn, domännamn m.m.
• otillbörlig konkurrens – reglerna om vilseledande efterbildning, företagshemligheter,
licensavtal, konkurrensklausuler m.m.

Boken fokuserar i första hand på immaterialrättigheternas utformning, faktiska funktion och tillämpning i praxis. Boken används som lärobok i juristutbildningen och vänder sig också till jurister, patentombud, kulturadministratörer, marknadskommunikatörer och andra som har kontakt med ämnesområdet eller någon av dess delar.

Författarna har stor erfarenhet inom ämnesområdet. De svarar gemensamt för framställningens uppläggning. Immaterialrätt och otillbörlig konkurrens har utarbetats inom ramen för verksamheten vid Institutet för Immaterialrätt och Marknadsrätt, IFIM, och Stockholm Centre for Commercial Law, SCCL, båda vid Stockholms universitet.

Skriv ut
Visa stor bild
PDF